随着电子工业的飞速发展，半导体行业对芯片的性能要求越来越高。半导体企业为了保证能生产出具有优异性能的超大规模集成电路，除高纯原材料、高纯气体、高纯化学药品要求外，高纯水也是控制芯片质量的关键因素之一。

高纯水是将普通的市政用水处理成对不同离子的含量和颗粒度都有很高要求的超纯水。在半导体制作过程中，50%以上的工序中硅片与超纯水直接接触，80%以上的工序需要进行化学处理，而化学处理又与超纯水有关。如果水中的杂质进入硅片，就会导致半导体器件性能，从而影响产品质量。因此，制备和使用高品质的超纯水已成为发展大规模集成电路的重要前提技术。

众所周知，超纯水管道系统在使用过程中，由于离子的聚集和杂质的粘着会对管道造成污染，从而影响硅片的质量。因此，半导体企业需要定期对超纯水管道进行清洗和消毒，以使水质达到工艺使用要求。但由于半导体企业生产任务紧以及专业方向的差异，企业自身很难投入精力进行超纯水管道的清洗和维护工作。目前各企业普遍采用“技术外包”的方式对超纯水管道进行清洗和保养处理。

基于上述现状，天泽技术研发人员经过多次走访相关半导体生产企业和水质处理企业的现状，研究出一套专业针对半导体企业用超纯水管道清洗方案。

一、 成果的主要内容

采用化学清洗法对半导体企业用超纯水管道进行处理，使其达到工业生产需求。

（1）水力清洗

用大量的水尽可能冲掉系统中的灰尘、泥沙。为了达到好的冲洗效果，需注意冲洗方式和水速的控制；

（2）药液循环清洗

选择合适的化学药液清洗纯水管道，其目的是杀死管道内附着的微生物及生物粘泥；

（3）水力循环冲洗

用反渗透处理水反复冲洗超纯水管道，其目的是冲洗掉管内残留的化学药液；

（4）采样检查

水力循环冲洗后采集水样，用化学分析方法检测水中是否含有残留药液及水质是否达标；

（5）复位检查

采样检查符合水质要求后，即可将系统复位至正常状态，以备交付使用。

“半导体企业用超纯水管道清洗方案”项目不断的论证、试验、实施和改进，取得了一定的成效。该项目的实施有利于降低企业对生产成本的投入和产品的出厂价格，在一定程度上提高了产品的竞争力。